9/11/2015
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Investigadores de la Universidad de Clarkson, EE.UU., han descubierto una técnica para proteger los dientes contra las caries con nanopartículas de sílice.

Los científicos utilizaron la técnica de alisado mecánico-químico se utiliza actualmente en la industria de semiconductores, para pulir la superficie de los dientes humanos que los hacen sólo aproximada en la nanoescala. La rugosidad después del pulido ha dejado pocos nanómetros, que es la milmillonésima parte de un metro, o cerca de 100.000 veces más pequeño que un grano de arena.

En la imagen superior se puede ver el tejido pulido derecha en comparación con la parte porosa del diente izquierdo donde están las bacterias adheridas.
Los dientes pulidos con esta técnica simplemente están demasiado "suaves" para las bacterias nocivas que destruyen el esmalte dental. Debido a que las bacterias no pueden adherirse adecuadamente pueden ser fácilmente eliminadas antes de que causen daños en el esmalte.
Los hallazgos fueron publicados en el Journal of Dental Research, la revista de la odontología con el mayor impacto en el mundo.
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